Detalhe do registoDetalhe do registoOnde estamosVoltar à listaRssFiltersOnde estamosVoltar à listaPartilharImprimirEmailExportarXDados para exportaçãoEmail:Formato: HTMLXML Todas as páginas (máx 72 refs) Página corrente Referência(s) selecionada(s) (máx 72 refs)Observações: Enviar Formato: NormalFormato: NP 405Formato: ISBD .Código QRTecnologia bipolar para VLSI : Lógica de injecção integrada (I2L) : Caracterização das células básicas / J. P. Cacho Teixeira , P. L. Borges TeixeiraDATA: 1982 ; Abr. 1982NOTAS: In: Electricidade Nº174 (Abr. 1982) 145-154 pp.PROPRIETÁRIO: Fundação EDP-Museu da ElectricidadeIN: Electricidade : Revista Técnica. - Lisboa, ISSN 0253-3367ISSN 0870-5364DOCUMENTO(S): Tecnologia bipolar para VLSI-Lógica de injecção integrada (I2L)-Caracterização das células básicas_J. P. Cacho Teixeira_Electricidade_Nº174_abr_1982_145-154.pdf×Versões DigitaisTecnologia bipolar para VLSI-Lógica de injecção integrada (I2L)-Caracterização das células básicas_J. P. Cacho Teixeira_Electricidade_Nº174_abr_1982_145-154.pdf Ver títulos deste(s): AUTOR(ES): Teixeira, João Paulo Cacho; Teixeira, P. L. BorgesASSUNTOS: Electricidade; Tecnologia; Lógica Adicionar à lista
